Zirconium Oxide ZrO₂ | Hafnium Oxide HfO₂ 99.9% Featured Image

জিরকোনিয়াম অক্সাইড ZrO₂ |হাফনিয়াম অক্সাইড HfO₂ 99.9%

বর্ণনা

জিরকোনিয়াম অক্সাইড ZrO₂, বা জিরকোনিয়াম ডাই অক্সাইড, জলে কার্যত অদ্রবণীয়, এবং HCl এবং HNO-তে সামান্য দ্রবণীয়₃, গলনাঙ্ক 2700°C, ঘনত্ব 5.85g/cm³, উচ্চ গলনাঙ্ক, উচ্চ প্রতিরোধ ক্ষমতা, উচ্চ প্রতিসরণ সূচক এবং নিম্ন তাপ সম্প্রসারণ সহগ বৈশিষ্ট্য সহ গন্ধহীন স্ফটিক, যা গুরুত্বপূর্ণ উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধী উপকরণ, সিরামিক অন্তরক উপকরণ, সিরামিক সানস্ক্রিন এবং কৃত্রিম রত্নগুলির জন্য কাঁচামাল।ZrO₂সাধারণ পণ্য যা ঠান্ডা, শুষ্ক এবং ভাল বায়ুচলাচল স্থানে রাখা উচিত, পাত্রটি শক্তভাবে বন্ধ এবং শক্তিশালী ক্ষার থেকে দূরে রাখা উচিত।জিরকোনিয়াম অক্সাইড ZrO₂সাধারণত ধাতব জিরকোনিয়াম এবং জিরকোনিয়াম যৌগ, উচ্চ ফ্রিকোয়েন্সি সিরামিক, ঘষিয়া তুলিয়া ফেলিতে সক্ষম উপকরণ, সিরামিক রঙ্গক, অবাধ্য উপাদান এবং অপটিক্যাল গ্লাস তৈরির জন্য ব্যবহৃত হয়।

ডেলিভারি

জিরকোনিয়াম অক্সাইড বা জিরকোনিয়াম ডাই অক্সাইড ZrO₂ZrO এর বিশুদ্ধতা সহ₂+HfO₂≥ 99.9% এবং হাফনিয়াম অক্সাইড HfO₂HfO এর বিশুদ্ধতা সহ₂+ZrO₂ওয়েস্টার্ন মিনমেটালস (SC) কর্পোরেশনে ≥99.9% 60-150 মেশ পাউডার আকারে, 25 কেজি প্লাস্টিকের ব্যাগে কার্ডবোর্ডের ড্রামের বাইরে, বা কাস্টমাইজড স্পেসিফিকেশন হিসাবে বিতরণ করা যেতে পারে।

এখন তদন্ত

বিস্তারিত

জিরকোনিয়াম অক্সাইড বা জিরকোনিয়াম ডাই অক্সাইড ZrO₂ ZrO এর বিশুদ্ধতা সহ₂+HfO₂≥ 99.9% এবং হাফনিয়াম অক্সাইড HfO₂HfO এর বিশুদ্ধতা সহ₂+ZrO₂ওয়েস্টার্ন মিনমেটালস (SC) কর্পোরেশনে ≥99.9% 60-150 মেশ পাউডার আকারে, 25 কেজি প্লাস্টিকের ব্যাগে কার্ডবোর্ডের ড্রামের বাইরে, বা কাস্টমাইজড স্পেসিফিকেশন হিসাবে বিতরণ করা যেতে পারে।

আইটেম	HfO₂	ZrO₂
চেহারা	সাদা পাউডার	সাদা পাউডার
আণবিক ভর	210.49	123.22
ঘনত্ব	9.68 গ্রাম/সেমি³	5.85 গ্রাম/সেমি³
গলনাঙ্ক	2758 °সে	2700 °সে
সি এ এস নং.	12055-23-1	1314-23-4

না.	আইটেম			স্ট্যান্ডার্ড স্পেসিফিকেশন
1	বিশুদ্ধতা			অপবিত্রতা (পিসিটি সর্বোচ্চ প্রতিটি)	আকার
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99.9%	Si 0.01, Fe 0.001, Ti/Na 0.002, U/th 0.005	60-150 মেশ
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99.9%	Fe/Si 0.002, Mg/Pb/Mo 0.001, Ca/Al/Ni 0.003, Ti 0.007, Cr 0.005	100 মেশ
4	মোড়ক			25 কেজি প্লাস্টিকের ব্যাগে কার্ডবোর্ডের ড্রামের বাইরে

হাফনিয়াম অক্সাইড এইচএফও₂, বা হাফনিয়াম ডাই অক্সাইড, হাফনিয়ামের একটি যৌগ, HfO₂+ZrO₂≥99.9%, গলনাঙ্ক 2758°C, ঘনত্ব 9.68g/cm³, জলে অদ্রবণীয়, HCl এবং HNO₃, কিন্তু H এ দ্রবণীয়₂SO₄এবং এইচএফ।হাফনিয়াম অক্সাইড HfO₂প্রশস্ত ব্যান্ড ফাঁক এবং উচ্চ অস্তরক ধ্রুবক সঙ্গে একটি সিরামিক উপাদান.হাফনিয়াম অক্সাইড এইচএফও₂MOSFET-এ ঐতিহ্যবাহী SiO₂/Si কাঠামোর বিকাশের আকার সীমার সমস্যা সমাধানের জন্য মেটাল অক্সাইড সেমিকন্ডাক্টর ফিল্ড ইফেক্ট টিউবের গেট ইনসুলেটর সিলিকা প্রতিস্থাপন করার সম্ভাবনা সবচেয়ে বেশি, তাই এটি মাইক্রোইলেক্ট্রনিক ক্ষেত্রে ব্যবহৃত একটি উন্নত উপাদান।এটি হাফনিয়াম ধাতু, হাফনিয়াম যৌগ, অবাধ্য উপাদান, অ্যান্টি-তেজস্ক্রিয় আবরণ উপাদান এবং অনুঘটক তৈরিতেও ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।